產(chǎn)品介紹
PECVD管式爐又叫做等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)的設(shè)備,是制造半導(dǎo)體器件和電池(電池片、正負(fù)極電池材料等)、晶體生長(石墨烯生長、磚石生長等材料)的重要工具之一。
PECVD系統(tǒng)是借助微波或射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,合成高質(zhì)量的薄膜材料,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

PECVD管式爐
PECVD管式爐的組成結(jié)構(gòu)

PECVD管式爐結(jié)構(gòu)圖

PECVD設(shè)備實(shí)拍
PECVD管式爐的工作原理
PECVD是通過外部增加的電場(chǎng)作用于系統(tǒng)內(nèi)參與反應(yīng)的氣體,使氣體電離產(chǎn)生輝光放電效應(yīng),從而可以在基體上高速沉積薄膜,是CVD中最大的細(xì)分市場(chǎng)。
在高溫和低壓的條件下,利用微波或射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng),氣態(tài)物質(zhì)經(jīng)過化學(xué)反應(yīng)生成固態(tài)物質(zhì),并在基材表面沉積形成薄膜。這個(gè)過程可以通過調(diào)節(jié)溫度、壓力、微波或射頻功率等參數(shù)來控制薄膜的生長和性質(zhì)。
PECVD管式爐的應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造:
PECVD管式爐可用于制造半導(dǎo)體器件和集成電路,如存儲(chǔ)器、微處理器、光電傳感器等。
光伏電池制造:
PECVD管式爐可用于制造高效光伏電池,如硅基光伏電池、化合物光伏電池等。
光學(xué)器件制造:
PECVD管式爐可用于制造光學(xué)器件,如光學(xué)濾波器、光學(xué)薄膜等。
電子器件制造:
PECVD管式爐可用于制造各種電子器件,如薄膜電阻、電容、電感等。
納米材料制備:
PECVD管式爐可用于制備各種納米材料,如納米晶體、納米纖維等。
PECVD管式爐是一種重要的實(shí)驗(yàn)設(shè)備,在半導(dǎo)體制造、光伏電池制造、光學(xué)器件制造、電子器件制造等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。它具有等離子增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)、高溫、低壓環(huán)境、高質(zhì)量薄膜、多樣的化學(xué)反應(yīng)、
設(shè)備應(yīng)用
針對(duì)材料的高溫?zé)Y(jié)工藝保證耐熱及絕緣性可靠性設(shè)計(jì),新型電極結(jié)構(gòu)避免了高溫爐電極漏水現(xiàn)象,并且加熱系統(tǒng)中的易損部件更便于維修和更換。
耐熱性高
安全性好
維修高效
PECVD管式爐主要用于
-
硬質(zhì)合金
-
陶瓷(氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷等)
-
磁性材料
-
粉末材料






